반도체 세정기 국산화에 성공/한국 DNS
수정 1994-09-03 00:00
입력 1994-09-03 00:00
한국DNS는 최근 이 장비를 자체 개발하는데 성공,이 달부터 본격 생산에 들어갔다.반도체 제조시 약액을 이용해 웨이퍼 표면의 오염물질을 깨끗이 제거하는 장치로,지금까지는 일본 등에서 연간 3백억원어치씩 들여왔다.
한국 DNS는 삼성전자와 일본 DNS,소에이사 등 3사가 공동 출자해 지난 5월 천안공단에 공장을 완공,감광액 도포 현상기와 자동표면 세정기 등의 반도체 장비를 생산하고 있다.
1994-09-03 10면
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