나노 반도체 효율성 10배 높여
수정 2009-11-16 12:00
입력 2009-11-16 12:00
서울대 화학생물공학부 현택환 교수팀 고농도 도핑기술 개발
서울대 화학생물공학부 현택환 교수팀은 반도체에 사용되는 나노결정을 핵 형성 과정에서부터 화학적으로 제어해 효율을 10%이상 높일 수 있는 도핑기술을 개발하는 데 성공했다고 15일 밝혔다.
지난 10여년간 LED, 태양전지, 메모리 소자 분야에서 반도체 나노결정 제조 공정에 관한 연구가 전 세계적으로 펼쳐졌으나, 반도체의 효율을 높이기 위한 도핑기술은 매우 작은 크기와 안정성 문제로 넘기 힘든 벽으로 인식돼 왔다.
현 교수팀은 결정 성장 과정 도중이 아닌 최초 핵 생성 과정에서부터 불순물(망간) 이온을 침투시키면 10%이상 고농도 도핑이 가능하고, 반도체도 10배 가까운 높은 효율을 얻을 수 있다는 것을 알아냈다.
이 결정 도핑기술은 전기 및 광학적으로 제어 가능한 차세대 자성반도체 분야에 적극 활용될 것으로 보인다. 이로써 우리나라는 차세대 나노 반도체 공정 기술 분야에서 세계 선두에 올라, 반도체 기술 강국의 명성을 계속 이어나갈 수 있을 것으로 기대된다. 연구결과는 16일 나노분야 권위 학술지인 ‘Nature Materials’ 인터넷판에 게재된다.
이영준기자 apple@seoul.co.kr
2009-11-16 29면
Copyright ⓒ 서울신문 All rights reserved. 무단 전재-재배포, AI 학습 및 활용 금지
