세계 최소 나노선 도핑기술 개발

염한웅 연세대 교수팀

국내 연구진이 세계 최초로 1나노미터(10억분의 1m)에 불과한 금속나노선(線)을 실리콘 기판 위에 구현하는 데 성공했다.2015년쯤 도달할 것으로 예상되는 반도체 소형화의 한계를 극복할 수 있는 획기적인 연구로 평가된다.

염한웅 연세대 교수

교육과학기술부와 과학재단의 지원으로 창의적연구진흥사업을 수행 중인 연세대 염한웅 교수 연구팀은 현재의 초고집적 실리콘 반도체소자의 금속배선에 비해 선폭이 50분의 1에 불과한 금속나노선을 반도체 소자로 만들 수 있는 도핑기술을 개발했다고 2일 밝혔다.

연구결과는 물리학 저널인 ‘피지컬 리뷰 레터스’지 3월28일자에 게재됐고,4월9일자에 2편이 실릴 예정이다. 이번 논문 게재로 염 교수팀은 물리학 분야에서 세계 최고의 권위를 가진 ‘피지컬 리뷰 레터스’에 최근 5년간 10편의 논문을 연속 발표하는 업적을 이뤘다.

연구팀은 1나노미터 폭의 금으로 된 원자선에 실리콘원자를 첨가하는 방식을 개발했다. 특히 연구팀은 가까운 시일 안에 현재 원자 2개 폭인 원자선을 1개까지 줄일 수 있을 것으로 보고 있다.

염 교수는 “반도체 소형화는 15∼30나노미터급에서 멈추리라는 것이 지배적인 분석”이라며 “이번 연구는 10나노미터 이하의 반도체 소자를 만들 수 있는 길을 열었다는 데 의의가 있다.”고 밝혔다.

박건형기자