60나노 1기가비트 D램 삼성 세계 첫 양산 개시
이기철 기자
수정 2007-03-02 00:00
입력 2007-03-02 00:00
삼성전자는 1일 세계 최초로 60나노(10억분의 1m·반도체 회로의 선폭)급 공정을 적용한 1기가비트(Gb·10억비트) DDR2 D램 대량 생산에 들어갔다.60나노급 공정은 삼성전자가 지난해 3월 시작한 80나노보다 40% 이상, 업계 주력인 90나노보다는 2배 이상 생산성이 높다. 원가 경쟁력을 획기적으로 개선할 수 있다.
특히 이번의 60나노 공정에는 삼성전자의 독자적인 RCAT 기술이 적용된 데 의미가 크다.D램 셀(Cell·기억소자)의 트랜지스터를 이전의 평면에서 입체적 방식으로 제작할 수 있는 초미세 기술이다. 또 ‘금속 기반 커패시터(데이터 저장영역)’ 기술이 적용됐다. 커패시터의 데이터 저장 특성을 획기적으로 개선했다.
60나노급 D램은 대용량 메모리에 주로 쓰인다. 그래픽(게임기 등)·모바일(휴대전화 등) D램 등에서도 확대 적용이 가능하다.
이기철기자 chuli@seoul.co.kr
2007-03-02 20면
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