현대­뒤퐁 전략적 제휴/차세대 포토마스크기술 개발

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수정 1998-03-13 00:00
입력 1998-03-13 00:00
현대전자는 12일 미국의 뒤퐁 포토마스크사와 차세대 포토마스크 기술을 공동개발하는 내용의 전략적 제휴를 맺었다.두 회사는 기술을 공동개발한 뒤 뒤퐁사가 개발된 기술에 따라 포토마스크를 생산,메모리 반도체 업체인 현대전자에 공급한다.

포토마스크는 반도체 회로패턴을 그려넣는 투명한 석영기판으로 이 마스크를 회로가 그려져 있지 않은 웨이퍼 위에 올려놓고 빛을 비추면 마스크의 회로패턴이 웨이퍼 위에 그대로 그려지면서 회로도가 완성되도록 하는 메모리반도체의 핵심기술이다.<조명환 기자>
1998-03-13 6면
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