한·CIS과학자 협력 첫결실/「박막코팅시스템」개발

◎머리카락 백만분의 1의 얇은 막 입혀/광메모리디스켓등 신소재개발 활용

머리카락의 백만분의 1정도 두께(1천만분의 1㎜)까지 정밀하게 박막을 입힐 수 있는 「복합 박막합성·이온주입시스템」(사진)이 국내연구진과 독립국가연합(CIS·옛소련)등 6개국연구팀에 이해 개발,한국과학기술연구원(KIST)에 설치돼 시험가동에 들어갔다.



KIST 김순광박사팀(기능재료설계연구실)과 러시아모스크바공학물리연구소(MEPI)등이 12억달러를 들여 제작한 이 박막합성기는 광디스크개발,다이아몬드박막센서제조,고체윤활피막,정밀베어링의 진공윤활등 초정밀 박막의 코팅에 쓰인다.

김순광박사팀은 『이 장비가 주로 광메모리디스켓재료개발에 쓰이게 될 것』이라고 말했다.